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多功能電化學(xué)測試系統(tǒng)

簡要描述:ModuLab XM是模塊化的電化學(xué)量測系統(tǒng),其核心是一高速、高性能的恒電位/恒電流儀,能精準(zhǔn)地進(jìn)行控制和測量。有一系列模塊供選購,以使電化學(xué)測試系統(tǒng)符合特殊應(yīng)用所需,包括:燃料電池開發(fā)、電化學(xué)分析、納米技術(shù)及腐蝕/涂層研究。各個選購模塊進(jìn)行各自獨(dú)立的校正,因此增加模塊到ModuLab系統(tǒng)就像“即插即用"般地簡單!儀器的前面板可輕易取下,然后插入新的模塊。

  • 產(chǎn)品型號:輸力強(qiáng)Modulab XM
  • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
  • 更新時間:2024-12-20
  • 訪  問  量:3484
  • 產(chǎn)品簡介

  

Modulab XM電化學(xué)綜合測試系統(tǒng)的儀器簡介:
ModuLab XM是模塊化的電化學(xué)量測系統(tǒng),其核心是一高速、高性能的恒電位/恒電流儀,能精準(zhǔn)地進(jìn)行控制和測量。有一系列模塊供選購,以使電化學(xué)測試系統(tǒng)符合特殊應(yīng)用所需,包括:燃料電池開發(fā)、電化學(xué)分析、納米技術(shù)及腐蝕/涂層研究。各個選購模塊進(jìn)行各自獨(dú)立的校正,因此增加模塊到ModuLab系統(tǒng)就像“即插即用"般地簡單!儀器的前面板可輕易取下,然后插入新的模塊,而當(dāng)儀器再次開機(jī)時,新的模塊即可由軟件快速偵測出來。
ModuLab XM系統(tǒng)不僅可以像“即插即用"般地以許多方式設(shè)定配置,而且可以由在一臺儀器上從單通道升級為多通道。從一個機(jī)箱一臺恒電位儀,到同一機(jī)箱搭配許多臺恒電位儀,或多個機(jī)箱、每個機(jī)箱各有多臺恒電位儀之?dāng)U充系統(tǒng)。多臺恒電位儀可用一部PC作控制,或者多部PC整合到一個系統(tǒng)中,從而依需要控制全部恒電位儀群組。同時隨時都可增加額外的恒電位儀及選購件到每個機(jī)箱內(nèi)。
ModuLab XM系統(tǒng)運(yùn)用的Over-Sampling采樣信號處理技術(shù),無論使用哪種組合,且即使是在>10KV/s的掃描速率之下操作,都能提供平滑的循環(huán)伏安波形。該信號發(fā)生器性能可確保待測體系不受步進(jìn)與暫態(tài)雜波所干擾,因?yàn)镸oduLab XM的“平滑掃描"就是這個意思。所使用的DSP高精度數(shù)字技術(shù)能確保在整個掃描速度范圍下可有精準(zhǔn)的波形產(chǎn)生與分析,而無需改變操作模式或連接。
ModuLab XM系統(tǒng)的每項(xiàng)選件都經(jīng)過精心的設(shè)計(jì),以便與核心恒電位/恒電流儀及其它選件無間隙地結(jié)合,以擴(kuò)大系統(tǒng)控制與測量之功能,給予研究人員毫無限制的測試平臺。
ModuLab XM系統(tǒng)提供的軟件既靈活、功能豐富,又容易使用。提供大量的實(shí)驗(yàn)類型可供選擇,從標(biāo)準(zhǔn)的開路、循環(huán)伏安法測試到復(fù)雜的包括樣品準(zhǔn)備的多步驟順序、高級別的實(shí)驗(yàn)技術(shù)及綜合的阻抗分析…。
ModuLab XM軟件運(yùn)用在實(shí)驗(yàn)開發(fā)所有階段的曲線圖形,所以用戶可確切知道要應(yīng)用什么波形到電解池上。當(dāng)參數(shù)被輸入軟件,將顯示實(shí)驗(yàn)運(yùn)行時應(yīng)用到電解池的實(shí)時波形圖及連接圖,使用者可檢查電解池是否正確連接,并在實(shí)驗(yàn)開始前作好調(diào)整。軟件內(nèi)的連接圖增強(qiáng)了拓展性能,使系統(tǒng)組態(tài)能快速簡便地再配置設(shè)定,以適應(yīng)任何類型的測試。
軟件允許自由選擇數(shù)據(jù)采集模式,不管所選擇的實(shí)驗(yàn)類型為何。例如,運(yùn)行脈沖伏安實(shí)驗(yàn),可選擇高采樣速率,如此可分析脈沖的實(shí)際形狀(電壓與電流),以便在脈沖上選擇的測量點(diǎn)。

Modulab XM電化學(xué)綜合測試系統(tǒng)的主要特點(diǎn)
?高性能“即插即用"模塊,即可擴(kuò)展功能又可擴(kuò)展通道
?64MS/s平滑掃描-LSV、LSP、CV
?高達(dá)1MS/s數(shù)據(jù)采集-脈沖、CV
?100aA電流分辨率
?±25A電流-掃描/脈沖
?±100V槽壓與極化
?10μΩ微阻抗測量
?>100TΩ高阻抗測量
?多種高速EIS技術(shù)


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